検査装置

VCSEL檢測

該設備是LD測試晶片探測器，可在常溫（20°C）到高溫（95°C）環境下自動測量WAFER狀態下VCSEL激光二極管的電和光學特性。在測量之前執行映射，並且根據映射一一進行IL和λ測量。 IL和λ測量完成後，依次執行FFP測量和NFP測量。它是與多光束VCSEL兼容的自動探測器。

Multi-beam　VCSEL　wafer

在測量之前，高速執行晶圓Maping。

・由Peltier來控制溫度

・20℃～95℃

・ IL / IV測量（CW）

・ Ir / Vr測量

・波長測量：標準兼容設備

短波：OCEAN OPTICS HR2000 +

・ FFP測量（Far Field Pattern）：1200萬像素攝像機圖像處理方法

・ NFP測量（Far Field Pattern）：1200萬像素攝像頭圖像處理方法